Skalp 4 for Sketchup 2019是最先進(jìn)的一款實(shí)時(shí)切片工具，能夠給用戶帶來最酷炫的3D影響設(shè)計(jì)理念，強(qiáng)大的功能讓你可輕松創(chuàng)建出令人心動的視覺效果。軟件能夠讓您能夠直接在SketchUp中創(chuàng)建令人驚嘆的平面圖和立面圖。剖面填充根據(jù)剖面的位置移動，會立即進(jìn)行填充圖案的更新，使您的圖紙更具專業(yè)化，任意位置修改填充樣式豐富圖紙信息表達(dá)。智能化剖面管理快速制作立面圖紙。您將不需要離開軟件，就能夠完成相關(guān)的操作，并且更加的簡單和快速，提高效率。在此次中小編帶來的是這款軟件，能夠完美適配Sketchup 2019給你帶來最好的三維設(shè)計(jì)理念，喜歡的用戶何嘗不下載體驗(yàn)一番！
軟件亮點(diǎn)
1、Skalp Sections自動填充圖案的橫截面。
實(shí)時(shí)更新，所有模型更改都可以實(shí)時(shí)跟蹤。
使用樣式重新映射每個(gè)場景中的外觀。
完全支持嵌套的組和組件。
在一個(gè)模型中支持多個(gè)繪圖比例。
整潔的用戶界面充滿了相關(guān)功能。
2、圖案設(shè)計(jì)師為Skalp剖面制作令人敬畏的tileable圖案紋理。
以一種新穎的創(chuàng)意方式對模型進(jìn)行紋理化。
導(dǎo)入上萬種標(biāo)準(zhǔn)CAD模式。
從頭開始構(gòu)建自己的。
支持刻度，透明度，顏色和線寬。
對齊的紋理
3、風(fēng)格同一部分以多種方式表示。
每個(gè)場景可以具有自己的橫截面樣式。
直觀而強(qiáng)大的映射查詢。
按層，材質(zhì)，陰影線或標(biāo)簽進(jìn)行分配。
圖案適應(yīng)繪圖比例。
4、出口導(dǎo)出到SketchUp Pro的LayOut。在所有場景中不斷更新Skalp部分。
導(dǎo)出到DXF包括真實(shí)的CAD填充圖案。
將場景批量導(dǎo)出到DXF。
使用說明
一、用戶界面概述
單擊Skalp 4 for Sketchup工具欄中的軟件圖標(biāo)，以顯示主對話框：
1、激活/停用軟件部分
此綠色/灰色滑塊按鈕可管理區(qū)域的可見性。通過激活/停用SketchUp部分以及打開/關(guān)閉特殊用途的軟件圖層來實(shí)現(xiàn)此目的。
如果要在活動場景中“記住”此設(shè)置，則必須使用“將軟件設(shè)置保存到場景”（7）。當(dāng)此滑塊按鈕為灰色且您無法將其變?yōu)榫G色時(shí)，表明模型中沒有軟件截面可用，您必須首先創(chuàng)建一個(gè)（3）。
2、手動更新
可用于重新計(jì)算截面。主要是在需要的時(shí)候，你已經(jīng)變成OFF軟件自動更新從菜單中的首選項(xiàng)。如果自動更新為ON，通常不需要。
也可以用來更新后視投影。如果后視圖投影不是最新的，則更新圖標(biāo)將為紅色。
您也可以使用“更新”按鈕更新所有場景，這使所有場景保持一致狀態(tài)，即使軟件不可用也可以訪問。這對于布局中的模型或?qū)⒛Ｐ鸵平唤o沒有軟件的客戶很有用。
3、添加一個(gè)新的軟件部分
將新軟件增強(qiáng)的剖面添加到模型中。
軟件運(yùn)行后，您可以使用軟件s“+”按鈕或使用標(biāo)準(zhǔn)“Section Plane”工具添加新部分。兩者都會產(chǎn)生完全相同的結(jié)果。
放置剖切面后，對話框允許您輸入名稱并創(chuàng)建一個(gè)新的場景以與該剖切相關(guān)聯(lián)。場景創(chuàng)建是可選的。稍后，也可以從“軟件”主對話框?qū)ⅰ败浖辈糠峙c場景關(guān)聯(lián)。多個(gè)場景可以與一個(gè)相同的軟件部分關(guān)聯(lián)。請參閱“使用場景管理軟件部分的可見性”。
4、刪除選定的軟件部分
刪除軟件部分，并刪除與所選軟件部分關(guān)聯(lián)的所有場景。（請參閱“使用場景管理軟件剖面可見性”來管理軟件場景關(guān)聯(lián)。）
5、對齊視圖
使用對齊視圖功能，可以將視圖對齊到活動剖面。
第一次單擊將對齊您的視圖。雙擊圖標(biāo)（一旦視圖對齊）將在透視圖和平行投影之間切換。
當(dāng)圖標(biāo)顯示為紅色時(shí)，這意味著該視圖不平行于剖面，并且因此導(dǎo)致只能在對齊視圖上使用的“深度剪切”功能被關(guān)閉。
6、軟件隱藏線模式
點(diǎn)擊打開ON或OFF的軟件Hiddenline模式。
有關(guān)軟件隱藏線模式的更多信息，請單擊此處。
7、將設(shè)置保存到場景
使用它可以將活動剖面和“軟件隱藏線模式”設(shè)置保存到當(dāng)前選定的場景中。
“ 將設(shè)置保存到場景”也有點(diǎn)像普通的場景更新。以下設(shè)置也會更新：
相機(jī)位置
隱藏的幾何
可見層
活動剖面
風(fēng)格和霧
如果以下屬性已經(jīng)保存在場景中，它們也將被更新：
陰影設(shè)置
軸位置
8、菜單
單擊此處以獲取有關(guān)菜單的更多詳細(xì)信息。
9、顯示更多
打開對話框的下部，以顯示“ Skalp Styles”編輯器。
單擊此處以獲取有關(guān)樣式的更多信息。
10、部分下拉列表
下拉列表可直接訪問此模型中的所有部分。
使用-沒有活動剖切面-打開關(guān)閉的部分。
激活或禁用列表中的某個(gè)部分后，您可能需要使用菜單中的“設(shè)置保存到場景”（7），將此設(shè)置存儲到活動場景中。
二、菜單
1、首選項(xiàng)
打開/關(guān)閉實(shí)時(shí)更新
切換自動更新。在
大多數(shù)情況下，請將其保留為開。此選項(xiàng)旨在關(guān)閉自動更新，以防萬一會使您的工作流程變慢。（例如，在非常大的或復(fù)雜的模型。）當(dāng)此選項(xiàng)開啟關(guān)閉，你不得不“強(qiáng)制更新”（4）手動科。在恢復(fù)將此選項(xiàng)切換為OFF之前，嘗試查找并減少模型“緩慢”的來源總是一個(gè)好主意。
設(shè)置截面偏移距離
確定截面組從標(biāo)準(zhǔn)Skalp 4 for Sketchup截面平面偏移的“深度”距離。這取決于模型尺寸和計(jì)算機(jī)的3D深度分辨率，在開始看到“剖面”結(jié)果的一部分被剪切之前，可以設(shè)置此偏移量有多小。（例如，在最近的Macbook Pro視網(wǎng)膜上0.1mm可以，在較舊的硬件上，我們建議至少1mm）。
設(shè)置渲染亮度
現(xiàn)在支持Thea Render內(nèi)部的部分。通常，您無需執(zhí)行任何操作即可使用并推送渲染。
我們建議打開“截面切割寬度”以獲得更好的效果。使用“截面切割寬度”時(shí)，渲染中的真實(shí)黑線將使不同的材質(zhì)彼此分開。
如果截面材質(zhì)在渲染中太暗或太亮，則可以使用“設(shè)置渲染亮度”設(shè)置來調(diào)整亮度。這只是作為Thea亮度設(shè)置的額外因素。
2、出口
將所有場景導(dǎo)出到LayOut
這使所有場景處于一致狀態(tài)，即使不可用也可以訪問。這對于LayOut中的模型或?qū)⒛Ｐ鸵平唤o沒有客戶很有用。
導(dǎo)出到DXF
將您的部分（包括前視圖和后視圖線）導(dǎo)出到DXF。
前視圖線將始終放置在“-FrontView”層上。后視圖投影線將始終放置在“-RearView”層上
對于該部分，您可以選擇以下選項(xiàng)：
Section Layer->“-Section”層上的所有內(nèi)容
對象層->每個(gè)剖面多邊形將放置在與3D剖面對象層名稱相同的層上。
材質(zhì)層->每個(gè)截面多邊形將放置在與該截面材料相對應(yīng)的命名圖層上。
*每個(gè)場景/視圖都可以導(dǎo)出到dxf。但是，當(dāng)剖面與視圖不對齊時(shí)，導(dǎo)出的dxf文件中將沒有陰影線，也沒有后視圖投影。該部分的正視圖可以處于正交或透視模式。
導(dǎo)出為圖像
您可以將包括部分在內(nèi)的場景導(dǎo)出為光柵圖像。圖像將保存在保存模型的目錄中。
將圖案導(dǎo)出到LayOut
這會將所有特殊的模式導(dǎo)出到以下目錄：
…插件/_/資源/布局圖案填充圖像/模式
將此目錄添加到LayOut的Patter-Fill Images文件夾中時(shí)，您可以使用LayOut中的圖案作為圖案填充
3、資源
保存/加載樣式規(guī)則
現(xiàn)在，您可以將樣式規(guī)則從模型保存和加載到其他模型，或與其他人共享您的樣式規(guī)則。
導(dǎo)入/導(dǎo)出材質(zhì)
現(xiàn)在，您可以將模型中的材質(zhì)導(dǎo)出和導(dǎo)入到其他模型，或與其他人共享您的材質(zhì)。僅特殊的材料將被導(dǎo)出。常規(guī)材質(zhì)/紋理將不會導(dǎo)出
該材質(zhì)庫將保存在以下目錄：
在Windows上：
C：用戶\AppDataRoamingSketchUpSketchUp[n]SketchUpPlugins_Resourcesmaterials導(dǎo)入/導(dǎo)出圖層映射
現(xiàn)在，您可以輕松導(dǎo)出和導(dǎo)入圖層映射。出口出口：
用于映射的圖層
映射中使用的材質(zhì)
層與材料之間的映射
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